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    半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置應用背景

     更新時(shí)間:2023-02-02 點(diǎn)擊量:845

      半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置近幾年在半導體行業(yè)有一定程度上應用比較多,那么,半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置的使用背景你們都了解多少呢?

      在芯片、晶元、液晶面板、集成電路等半導體產(chǎn)品生產(chǎn)加工過(guò)程中,半導體產(chǎn)品生產(chǎn)主工藝設備對加工溫度有著(zhù)很苛刻的要求。主工藝設備在半導體產(chǎn)品加工過(guò)程中,需要維持恒定的環(huán)境溫度,如果配套控溫設備溫度波動(dòng)過(guò)大就會(huì )造成廢品和殘次品,引起不必要的經(jīng)濟浪費。

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      半導體行業(yè)工藝設備配套的控溫設備冷熱循環(huán)裝置溫控能力可以達到空載狀態(tài)下溫度波動(dòng)不超過(guò)±1℃,帶載狀態(tài)下不超過(guò)±1℃。目前常用的控溫方式為間接制冷系統,是利用控溫設備的制冷系統冷卻載冷劑,再經(jīng)過(guò)電加熱器進(jìn)行溫度調節,持續不斷地向主工藝設備端供應恒溫載冷劑,通過(guò)載冷劑與主工藝設備熱交換腔進(jìn)行熱量交換,維持半導體主工藝設備的恒溫狀態(tài)。

      無(wú)錫冠亞半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置Chiller,用于芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供準確且快速的環(huán)境溫度。是對產(chǎn)品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設備。廣泛應用于半導體企業(yè)、航空航天、光通訊、高校、研究所等領(lǐng)域。

      LNEYA的液體溫度控制技術(shù),主要用于半導體測試中的溫度測試模擬,具有寬溫度定向和高溫升降,溫度范圍-85~250℃,適合各種測試要求。LNEYA探索和研究元件測試系統,致力于解決電子元器件中溫度控制滯后的問(wèn)題,冷卻技術(shù)可直接從300℃進(jìn)行冷卻。該產(chǎn)品適用于電子元器件的jing確溫度控制需求。

      半導體行業(yè)冷熱循環(huán)裝置在用于惡劣環(huán)境的半導體電子元件的制造中,IC封裝組裝和工程和生產(chǎn)的測試階段包括在溫度(-85℃至+ 250℃)下的電子冷熱測試和其它環(huán)境測試模擬。