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    密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機

    簡要描述:【無錫冠亞】密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

    • 產品型號:SUNDI-355
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-08-27
    • 訪  問  量:134
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價格區(qū)間10萬-20萬
    產地類別國產應用領域化工,生物產業(yè),石油,制藥,綜合

    密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機


    無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統(tǒng)

    前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協議

    MODBUS RTU 協議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

    導熱介質溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統(tǒng)

    整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風)cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規(guī)重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

     

    密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機

    密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機

       

      在眾多實驗設備中,高低溫液體循環(huán)裝置溫度控制能力和廣泛的應用領域,成為了現代實驗室的工具。本文旨在探討高低溫液體循環(huán)裝置在實驗室中的具體應用及其重要性。

      一、高低溫液體循環(huán)裝置概述

      高低溫液體循環(huán)裝置是一種集制冷、加熱、循環(huán)于一體的溫控設備,它通過循環(huán)泵將工作介質在封閉的系統(tǒng)中循環(huán)流動,實現對目標物體或環(huán)境的快速、準確的溫度調節(jié)。

      二、在實驗室中的具體應用

      1. 材料性能測試

      在材料科學領域,高低溫液體循環(huán)裝置常用于模擬環(huán)境條件下的材料性能測試,通過準確控制溫度,研究人員可以更加準確地了解材料在不同溫度下的行為特性,為材料的設計、優(yōu)化和應用提供科學依據。

      2. 生物醫(yī)藥研究

      高低溫液體循環(huán)裝置可用于細胞培養(yǎng)、藥物穩(wěn)定性測試、生物樣品保存等方面。例如,在細胞培養(yǎng)過程中,通過準確控制培養(yǎng)液的溫度,可以模擬人體內的生理環(huán)境,促進細胞的正常生長和分化;在藥物穩(wěn)定性測試中,則可以通過模擬不同溫度條件,評估藥物在不同環(huán)境下的保質期和藥效變化。



    密閉高低溫循環(huán)裝置-10~200℃ 雙溫一體機




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