簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序
品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
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價(jià)格區間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
儀器種類(lèi) | 一體式 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車(chē) |
主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。
半導體專(zhuān)溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專(zhuān)用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統
Chiller直冷型
循環(huán)風(fēng)控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤(pán)
數據中心液冷解決方案
型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進(jìn)出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴展 | 通過(guò)增加電加熱器,擴展-25℃~80℃ |
介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序
介質(zhì)刻蝕雙通道chiller用于半導體制造工序
隨著(zhù)科技的不斷發(fā)展,半導體行業(yè)對設備冷卻的需求日益增長(cháng),淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在半導體制造過(guò)程中發(fā)揮著(zhù)作用。本文將對淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的應用進(jìn)行詳細介紹。
1、半導體制造:在半導體制造過(guò)程中,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller被廣泛應用于冷卻芯片、晶體管等高精度、高功率器件。
2、激光器冷卻:激光器在運行過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生大量的熱能,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠為激光器提供穩定的冷卻環(huán)境,保證其性能穩定。
3、電力電子設備冷卻:在電力電子設備中,如變頻器、電源等,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠有效地冷卻關(guān)鍵器件,提高設備可靠性。
4、其他領(lǐng)域:除上述領(lǐng)域外,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller還廣泛應用于設備、光學(xué)儀器等領(lǐng)域。
淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller能夠實(shí)現溫度的準確控制,為設備提供穩定的冷卻環(huán)境。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller結構緊湊,體積小,適用于空間有限的場(chǎng)合。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller操作簡(jiǎn)單,維護方便,降低了使用成本。
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