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    密閉式反應釜高低溫一體機-半導體液冷設備

    簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】密閉式反應釜高低溫一體機-半導體液冷設備,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-125
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2024-01-10
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:374
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無(wú)錫冠亞價(jià)格區間10萬(wàn)-20萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

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    無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線(xiàn)顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過(guò)載保護;高壓壓力開(kāi)關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統

    整個(gè)系統為全密閉系統,高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升,低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風(fēng))cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風(fēng)) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風(fēng)冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /




    密閉式反應釜高低溫一體機-半導體液冷設備

    密閉式反應釜高低溫一體機-半導體液冷設備


      密閉式冷熱循環(huán)系統是應用在制藥化工中進(jìn)行制冷加熱控溫的設備,那么,如何選擇適合的密閉式冷熱循環(huán)系統呢?一起跟冠亞制冷小編往下看。

      1、密閉式冷熱循環(huán)系統的溫度控制精度

      密閉式冷熱循環(huán)系統配套制藥反應釜需要在特定的溫度條件下進(jìn)行材料合成,因此溫度控制精度是一個(gè)重要的因素。選購制藥反應釜密閉式冷熱循環(huán)系統時(shí),企業(yè)應關(guān)注其溫度控制的準確度,并確保它能夠滿(mǎn)足工藝要求。

      2、密閉式冷熱循環(huán)系統的運行狀態(tài)

      密閉式冷熱循環(huán)系統的效率對于反應的進(jìn)行和效果有著(zhù)直接的影響,企業(yè)應選擇具有運行穩定的設備,以確保反應能夠快速達到溫度要求并保持穩定。

      3、密閉式冷熱循環(huán)系統的性能

      密閉式冷熱循環(huán)系統過(guò)程通常需要長(cháng)時(shí)間運行,企業(yè)應該選擇性能較高的制藥反應釜密閉式冷熱循環(huán)系統,以減少設備故障和維修頻率,提高生產(chǎn)效率。

      4、密閉式冷熱循環(huán)系統的穩定性

      密閉式冷熱循環(huán)系統涉及到化學(xué)反應,選購制藥反應釜密閉式冷熱循環(huán)系統時(shí),企業(yè)應確保其能夠提供保障措施,如溫度超過(guò)設定范圍時(shí)的自動(dòng)停機保護功能。

      5、密閉式冷熱循環(huán)系統的控制系統

      密閉式冷熱循環(huán)系統的控制系統對于設備的操作和調控起著(zhù)作用。企業(yè)應選擇易于操作、功能齊全的控制系統,并確保其能夠提供實(shí)時(shí)監控和數據記錄功能,以便進(jìn)行監測和分析。

      用戶(hù)在購買(mǎi)制藥反應釜密閉式冷熱循環(huán)系統時(shí),企業(yè)應綜合考慮以上因素,并根據自身的生產(chǎn)需求進(jìn)行合理選擇。



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