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    萃取制冷加熱溫度控制裝置工藝要求以及特點(diǎn)

    簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】萃取制冷加熱溫度控制裝置工藝要求以及特點(diǎn),應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-635
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2024-01-08
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:714
    詳情介紹
    品牌LNEYA/無(wú)錫冠亞價(jià)格區間5萬(wàn)-10萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

    <strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

    無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

    <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說(shuō)明</strong></strong>

    型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
    介質(zhì)溫度范圍-60℃~+300℃ (系統加壓3BAR)
    控制系統前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法,PLC控制器
    溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
    溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
    程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
    通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
    外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
    溫度反饋設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度
    導熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
    反應物料溫控精度±1℃
    加熱功率 kW5.57.5101525
    制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
    100℃5.57.5101525
    20℃5.57.5101525
    -20℃4.868.21225
    -40℃2.33.14.87.818
    -55℃0.750.91.52.86
    流量壓力 max  L/min bar355060110150
    222.52.52.5
    循環(huán)泵冠亞磁力驅動(dòng)泵
    壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
    膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
    蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
    操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線(xiàn)顯示、記錄
    安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過(guò)載保護;高壓壓力開(kāi)關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
    密閉循環(huán)系統整個(gè)系統為全密閉系統,高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升,低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。
    制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
    接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
    水冷型 W
    溫度 20度
    1800L/H
    1.5bar~4bar
    G3/4
    2100L/H
    1.5bar~4bar
    G3/4
    3000L/H
    1.5bar~4bar
    G1
    4000L/H
    1.5bar~4bar
    G1 1/8
    8.5m³/H
    1.5bar~4bar
    DN40
    外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
    重量kg265305340380980
    電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

     <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說(shuō)明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說(shuō)明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說(shuō)明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說(shuō)明</strong></strong>

    萃取制冷加熱溫度控制裝置工藝要求以及特點(diǎn)

    萃取制冷加熱溫度控制裝置工藝要求以及特點(diǎn)

       1、萃取制冷加熱溫度控制裝置工藝要求

      快速溶劑萃取技術(shù)的本質(zhì)是液固萃取,利用溶質(zhì)在不同溶劑中的溶解度不同這一特性,在較高的溫度和壓力條件下,選擇溶劑,通過(guò)快速溶劑萃取儀,實(shí)現固體或半固體樣品中有機物的快速萃取。

      溫度越高,溶劑粘度越低,待測物解吸和溶解的動(dòng)力學(xué)過(guò)程越快,從而可大大縮小萃取時(shí)間,提高萃取效率,常規使用的溫度為。由于液體的沸點(diǎn)一般隨壓力的升高而提高,因此萃取過(guò)程中變大壓力可以提供溶劑沸點(diǎn),使溶劑在高溫下仍保持液態(tài),提高萃取效率,同時(shí)保證了萃取過(guò)程的靠譜性。

      2、萃取制冷加熱溫度控制裝置系統優(yōu)勢

      無(wú)錫冠亞萃取機溫控系統設置有加熱裝置和循環(huán)傳熱媒介,通過(guò)PLC溫度控制系統對加熱裝置實(shí)現自動(dòng)化控制,如此加熱裝置便會(huì )根據PLC溫度控制系統設定的時(shí)間、溫度自動(dòng)化,對萃取物料進(jìn)行加熱,從而達到自動(dòng)化加熱萃取的目的。

      通常物系的溫度升高組分間溶解度變大反之減小。因此溫度明顯地影響溶解度曲線(xiàn)的形狀、聯(lián)結線(xiàn)的斜率和兩相區面積從而也影響分配曲線(xiàn)的形狀。一般溫度升高分層區面積減小對萃取操作不利。但是溫度過(guò)低流體黏度變大其流動(dòng)性變差對萃取的混合及沉降分層過(guò)程也不利從而也會(huì )影響萃取分離效果。

    觸摸屏與PLC溫度控制系統連接,能夠實(shí)時(shí)顯示和控制加熱當前的溫度。 與現有技術(shù)相比,其優(yōu)點(diǎn)在于:能夠自動(dòng)化控制,對萃取桶進(jìn)行加熱,從而方便對升溫速率、溫度的掌控,有利于實(shí)現工業(yè)化生產(chǎn)。 

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