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簡(jiǎn)要描述：高低溫冷卻循環(huán)裝置PLC控制操作方便，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。
產(chǎn)品型號：SUNDI-320廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2024-01-06訪(fǎng) 問(wèn) 量：419| 品牌 | LNEYA/無(wú)錫冠亞 | 價(jià)格區間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無(wú)錫冠亞冷熱一體機
解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，
用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制
或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。
無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
高低溫冷卻循環(huán)裝置PLC控制操作方便
高低溫冷卻循環(huán)裝置PLC控制操作方便
間歇反應釜升溫過(guò)程的溫度控制，必須熟悉產(chǎn)品生產(chǎn)工藝和生化反應特性，只有熟悉產(chǎn)品生產(chǎn)工藝和掌握生化反應特性才能保證產(chǎn)品質(zhì)量。今天來(lái)介紹一下高低溫冷卻循環(huán)裝置如何實(shí)現反應釜溫度控制。
反應釜溫度控制的PLC高低溫冷卻循環(huán)裝置由加熱裝置和冷卻裝置兩部分組成。加熱裝置由高低溫冷卻循環(huán)裝置系統內部電加熱管、循環(huán)泵構成，通過(guò)PLC調節高低溫冷卻循環(huán)裝置加熱管功率來(lái)控制導熱油溫度，從而調節釜內升溫速率。
反應釜加熱過(guò)程中，高低溫冷卻循環(huán)裝置通過(guò)加熱管對導熱油進(jìn)行加熱后，再經(jīng)導熱油把熱量傳遞給釜內物料，這樣增加受熱面積，避免釜內物料局部高溫受熱。高低溫冷卻循環(huán)裝置冷卻裝置主要包括冷卻水調節閥、冷卻水泵和換熱器等設備構成，通過(guò)調節冷卻水調節閥開(kāi)度來(lái)控制流入換熱器的冷卻水流量，進(jìn)而控制釜內降溫速率間。
在高低溫冷卻循環(huán)裝置反應釜恒溫階段，根據釜內溫度檢測值和設定值的誤差調節冷卻水閥門(mén)開(kāi)度，使進(jìn)入換熱器內冷卻水移走熱量和釜內化學(xué)反應產(chǎn)生熱量保持平衡，實(shí)現釜內溫度恒定。
反應釜加熱冷卻一體控溫高低溫冷卻循環(huán)裝置溫度控制包括3個(gè)階段：升溫階段、恒溫階段、降溫階段組成。對于生產(chǎn)、技術(shù)條件有更高的要求。
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