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簡(jiǎn)要描述：單流體控溫系統裝置同時(shí)解決冷熱難題，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。
產(chǎn)品型號：SUNDI-575廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2024-01-06訪(fǎng) 問(wèn) 量：501| 品牌 | LNEYA/無(wú)錫冠亞 | 價(jià)格區間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
無(wú)錫冠亞冷熱一體機
解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，
用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制
或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。
無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
單流體控溫系統裝置同時(shí)解決冷熱難題
單流體控溫系統裝置同時(shí)解決冷熱難題
單流體控溫系統裝置可以進(jìn)行制冷加熱，分為加熱系統和冷卻系統，機器不可在無(wú)水的情況下運行,必須保證吸水管口處于水中,吸水管口不可漏氣；操作開(kāi)關(guān)請盡量避免連續切換；冷凍水溫度達到設定溫度時(shí)，壓縮機會(huì )自動(dòng)停止運行，此屬正?，F象
溫度開(kāi)關(guān)應避免設定在5℃以下，防止蒸發(fā)器結冰；為確保制冷效果，保持佳狀態(tài)，請定期清洗冷凝器、蒸發(fā)器及水過(guò)濾器。
無(wú)錫冠亞專(zhuān)業(yè)提供單流體控溫系統裝置，將制冷和加熱集中于一體的溫度控制設備，傳熱的媒介是水或者油，熱傳導性好。
實(shí)際反應過(guò)程中常伴有強烈的放熱效應，使反應溫度有所變化。針對反應釜溫度控制的特點(diǎn)，無(wú)錫冠亞研發(fā)采用基于PID控制的反應釜溫度控制反應釜自動(dòng)控制溫度裝置，通過(guò)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò )的在線(xiàn)學(xué)習功能，增強系統的自動(dòng)調節和自適應能力，使反應釜恒溫控制更穩定
反應釜自動(dòng)控制溫度裝置可根據實(shí)際生產(chǎn)工藝來(lái)確定加熱功率及泵浦功率，避免出現功率過(guò)大或不足的現象產(chǎn)生。根據客戶(hù)生產(chǎn)工藝制定各種特殊機型冷熱一體機、防爆型等。
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