無(wú)錫冠亞冷熱一體機 

解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制 

或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套釜特點(diǎn)

實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套釜特點(diǎn)

　　實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜是綜合反應容器，根據反應條件對反應釜結構功能及配置附件的設計。從開(kāi)始的進(jìn)料-反應-出料均能夠以較高的自動(dòng)化程度完成預先設定好的反應步驟，對反應過(guò)程中的溫度、壓力、力學(xué)控制（攪拌、鼓風(fēng)等）、反應物/產(chǎn)物濃度等重要參數進(jìn)行嚴格的調控。

　　實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜所用的材料、攪拌裝置、加熱方法、軸封結構、容積大小、溫度、壓力等各有異同、種類(lèi)很多，它們的基本特點(diǎn)分述如下：

　　實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜結構基本相同，除有反應釜體外，還有傳動(dòng)裝置、攪拌和加熱（或冷卻）裝置等，可改善傳熱條件，使反應溫度控制得比較均勻，并不強化傳質(zhì)過(guò)程。

　　實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜操作壓力較高。釜內的壓力是化學(xué)反應產(chǎn)生或由溫度升高而形成，壓力波動(dòng)較大，有時(shí)操作不穩定，突然的壓力升高可能超過(guò)正常壓力的幾倍，因此，大部分反應釜屬于受壓容器。

　　實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜操作溫度較高，通?；瘜W(xué)反應需要在一定的溫度條件下才能進(jìn)行，所以反應釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的方法通常有以下幾種：

　　1）水加溫

　　要求溫度不高時(shí)可采用，其加熱系統有敞開(kāi)式和密閉式兩種。敞開(kāi)式較簡(jiǎn)單，它由循環(huán)泵、水槽、管道及控制閥門(mén)的調節器所組成，當采用高壓水時(shí)，設備機械強度要求高，反應釜外表面焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

　　2）蒸汽加熱

　　加熱溫度在100℃以下時(shí)，可用一個(gè)大氣壓以下的蒸汽來(lái)加熱；100——180℃范圍內，用飽和蒸汽；當溫度更高時(shí)，可采用高壓過(guò)熱蒸汽。

　　3）用其它介質(zhì)加熱

　　若工藝要求建議在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統時(shí)，可用其它介質(zhì)來(lái)代替水和蒸汽，如礦物油（275——300℃）、聯(lián)苯醚混合劑（沸點(diǎn)258℃）、熔鹽（140——540℃）、液態(tài)鉛（熔點(diǎn)327℃）等。

　　4）電加熱

　　將電阻絲纏繞在反應釜筒體的絕緣層上，或安裝在離反應釜若干距離的特設絕緣體上，因此，在電阻絲與反應釜體之間形成了不大的空間間隙。

實(shí)驗室小型反應釜加熱冷卻裝置前三種方法獲得高溫均需在釜體上增設夾套，由于溫度變化的幅度大，使釜的夾套及殼體承受溫度變化而產(chǎn)生溫差壓力。采用電加熱時(shí)，設備較輕便簡(jiǎn)單，溫度較易調節，但操作費用較其它加熱方法高，因此適用于加熱溫度在400℃以下和電能價(jià)格較低的地方。