無(wú)錫冠亞冷熱一體機 

解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制 

或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

反應釜高低溫循環(huán)裝置-半導體冷熱一體機

反應釜高低溫循環(huán)裝置-半導體冷熱一體機

　　在制藥化工行業(yè)中，有各種各樣對于微通道反應器配套的冷熱源恒溫控制設備，不同的 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備帶來(lái)溫度范圍是不一樣的，同時(shí)， 反應釜高低溫循環(huán)裝置在使用的時(shí)候也需要注意一些使用要點(diǎn)，避免操作失誤。

　　使用 反應釜高低溫循環(huán)裝置之前，應該添加合適的載冷劑，載冷劑種類(lèi)比較多，一般有水、乙二醇、氯化鈉、氯化鈣鹽水溶液等，常用水比較普遍，需要注意的是：液體的介質(zhì)不能低于工作臺板20mm。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置應該放置在干燥通風(fēng)的位置，后背及兩側離開(kāi)障礙物400mm距離，需要注意不要將 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備處于潮濕陰暗的地方，長(cháng)時(shí)間的濕度會(huì )影響 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備，并且造成實(shí)驗結果不準確，影響實(shí)驗數據，所以，用戶(hù)千萬(wàn)不要不當回事，要注意放置在要求的地方。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置設備的型號比較多，用戶(hù)根據自己的工藝對應技術(shù)參數來(lái)確定具體的型號，建議由相關(guān)技術(shù)人員進(jìn)行確定，避免型號選擇過(guò)大過(guò)小，不能安全進(jìn)行運行工作。電源功率應該大于或者等于儀器總功率，電源必須要有良好的“接地”裝置（注：低溫冷卻液循環(huán)泵380v電壓儀器背后左下方螺絲上有接地引線(xiàn)）。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置在使用完畢之后，所有開(kāi)關(guān)必須置于關(guān)機狀態(tài)，方可拔下電源插頭，用吸球，皮管把笑傲內的液體吸干。

　　定期制定清理保養計劃，保證 反應釜高低溫循環(huán)裝置處于運行的狀態(tài)，減少企業(yè)成本，促進(jìn)運行。

平時(shí)在操作反應釜高低溫循環(huán)裝置設備設備的時(shí)候，要多看多問(wèn)多想，才能更好的使用 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備。