簡(jiǎn)要描述:TCU-無(wú)錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH,用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制,可實(shí)現-120度~300度控溫,避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。
品牌 | LNEYA/無(wú)錫冠亞 | 價(jià)格區間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
TCU-無(wú)錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH
TCU-無(wú)錫冠亞反應釜控制ZLF-50NSH
反應釜作為制藥生產(chǎn)中實(shí)現化學(xué)反應的主要設備,在實(shí)際的化學(xué)合成反應過(guò)程中,溫度是工業(yè)生產(chǎn)中常見(jiàn)的工藝參數之一,任何物理變化和化學(xué)反應過(guò)程都與溫度密切相關(guān)。反應釜的溫度控制-反應釜控制ZLF-50NSH占有著(zhù)較為重要的地位。從傳統的手動(dòng)控溫逐漸轉變?yōu)樽詣?dòng)控溫,隨著(zhù)制藥行業(yè)水平的不斷提高,對生產(chǎn)所需的各種設備、儀器儀表的要求也在不斷的提高。自動(dòng)溫度控制模塊(以下稱(chēng)溫控單元)是指通過(guò)外界提供的冷源和熱源對各種設備如反應釜、干燥箱等實(shí)現溫度的自動(dòng)控制。
在實(shí)際化工生產(chǎn)過(guò)程中,反應釜的溫度會(huì )影響化工產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量,在很大程度上生產(chǎn),也在一定程度上影響安全的化學(xué)過(guò)程。因此如何反應的化學(xué)反應器溫度控制準確,,就變得越來(lái)越重要。
反應釜控制ZLF-50NSH針對在化學(xué)反應釜內進(jìn)行溫度控制的不確定滯后導致的控制困難,采用一種模糊PID控制算法。算法利用PLC的系統功能進(jìn)行實(shí)現。系統充分利用了PLC控制系統靈活、可靠、抗干擾能力強等特點(diǎn)?,F場(chǎng)運用結果表明系統較好消除了時(shí)變時(shí)滯對控制的影響,具有較好的魯棒性。
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