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    • 加熱制冷循環(huán)裝置誠信廠家-80℃~250℃

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環(huán)裝置誠信廠家-80℃~250℃

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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    • 加熱制冷一體機-實驗室加熱裝置

      加熱制冷一體機-實驗室加熱裝置特點:寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,溫度范圍:-30~180度。寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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    • 加熱循環(huán)裝置控溫-25℃ ~ 200℃拖二系統(tǒng)

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱循環(huán)裝置控溫-25℃ ~ 200℃拖二系統(tǒng)

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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    • 加熱制冷浴槽SUNDI-430W-45℃~180℃

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷浴槽SUNDI-430W-45℃~180℃

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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    • 小型高低溫循環(huán)一體機

      寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-30~180度。寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-30~180度。 小型高低溫循環(huán)一體機

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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    • 制冷加熱控溫系統(tǒng)反應器配套設備

      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱控溫系統(tǒng)反應器配套設備-100℃ ~ 100℃

      更新時間:2023-12-21

      廠商性質:生產廠家

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