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TCU-無(wú)錫冠亞溫度循環(huán)控制系統ZLF-50NH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無(wú)錫冠亞反應釜溫控ZLF-50NS，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無(wú)錫冠亞plc溫度控制系統ZLF-50N，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無(wú)錫冠亞反應釜模溫機ZLF-35NSH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無(wú)錫冠亞反應釜冷卻系統ZLF-35NH，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。

TCU-無(wú)錫冠亞反應釜加熱循環(huán)器ZLF-35NS，用戶(hù)可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復的溫度控制，可實(shí)現-120度～300度控溫，避免了傳統設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小。