低溫恒溫循環(huán)器應用域：
生化域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應器（合成器）等。
材料域：電鏡、X射線(xiàn)衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學(xué)沉積系統、原子沉積系統等。
醫療域：超導磁共振、直線(xiàn)加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機、微波治療機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料域。使用的各種需水冷設備。

產(chǎn)品特點(diǎn)：
節約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環(huán)使用，節約大量的水資源。
效率更高——臺循環(huán)水設備可同時(shí)滿(mǎn)足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實(shí)驗。
控溫精度——PID控溫技術(shù)，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀(guān)
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過(guò)載保護等多種安全保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿(mǎn)足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時(shí)，其低溫度必須在0℃以上。

冷卻水選型相關(guān)：
通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實(shí)驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于A(yíng)AS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。

低溫恒溫循環(huán)器應用范圍：對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D載、印刷機、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動(dòng)包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹(shù)脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線(xiàn)解析裝置的熱源、自動(dòng)脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長(cháng)精密儀器的使用壽命。