TCU高低溫循環(huán)裝置是一款可以配套反應釜、反應器進(jìn)行制冷加熱控溫來(lái)滿(mǎn)足實(shí)驗冷源和熱源的控溫需求，在各種實(shí)驗反應過(guò)程中，微反應器配套TCU高低溫循環(huán)裝置怎么實(shí)現物料制冷加熱溫度控制的呢？

　　微反應器是通過(guò)一定的設計要求實(shí)現流體的混合換熱，可以均勻傳熱或即時(shí)傳熱的實(shí)驗器材，用戶(hù)在選擇TCU高低溫循環(huán)裝置配套的反應器時(shí)涉及反應穩定性、換熱效率、反應速度等精細管理和監測。如果選擇不當，反應結果將不準確，影響材料濃度、反應溫度、反應壓力等結果數據，因此，微反應器的溫度控制非常重要。

　　在使用TCU高低溫循環(huán)裝置控制微反應器的溫度時(shí)，高精度溫度控制可以使微反應器避免局部溫度過(guò)高或飛溫等故障。例如，在微反應器中進(jìn)行硝化反應時(shí)，反應溫度對反應的影響很大。相應的熱量可以及時(shí)從反應中移除，提高工藝生產(chǎn)的穩定性，避免反應散熱不均勻造成的一些故障。如果溫度控制不準確，副反應會(huì )增加，容易引起硝化反應問(wèn)題。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置可以改變控制設定值的方法，可以在響應過(guò)程中盡快落后于系統，得到非常小的系統過(guò)沖。TCU高低溫循環(huán)裝置控制由兩組PID(每組PID可變)控制電路組成。這兩組控制電路稱(chēng)為主電路和從電路，主電路的控制輸出作為從電路的設定值。系統采用帶前饋PV的PID輸出和帶前饋PV信號作為控制電路的設定值。利用這種溫度變化梯度控制，保證了系統的溫度控制精度。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置專(zhuān)門(mén)設計的滯后估計器(無(wú)模型自建計算方法)產(chǎn)生動(dòng)態(tài)信號yc(t)作為反饋信號，而不是過(guò)程變量y(t)。TCU高低溫循環(huán)裝置對控制器產(chǎn)生e(t)信號，使控制器預測控制效果不大滯后，使控制器始終能夠產(chǎn)生適當的控制信號。TCU高低溫循環(huán)裝置利用三點(diǎn)采樣(物料溫度點(diǎn)、溫度控制系統出口溫度、溫度控制系統溫度)樹(shù)計算方法與普通抗滯后串及計算方法相結合。

配備微反應器的TCU高低溫循環(huán)裝置可用于多種多樣醫藥化工制造行業(yè)，連接反應器，實(shí)現制冷加熱溫度的控制，為反應器的多種多樣吸熱和放熱反應提拱相應的冷源和熱源。目前，TCU高低溫循環(huán)裝置制造商較多，技術(shù)能力不均勻。無(wú)錫冠亞建議采用PLC程序控制模式，可設置導熱介質(zhì)和材料溫差，可提供高精度線(xiàn)性材料的溫度控制效果。